DMD芯片(数字微镜器件)是通过微电子制造工艺制作而成的。
首先,在硅基底上生长一层绝缘层,然后在其上沉积一层铝反射层。接下来,在铝层上使用光刻技术制作出数百万个微小的可移动反射镜。这些反射镜由弹簧支撑,并能够在电场的作用下倾斜。最后,通过控制电场的变化,可以使反射镜倾斜并反射光束,实现图像的投影和显示。整个制造过程需要高精度的工艺控制和复杂的设备,以确保芯片的性能和可靠性。
DMD芯片是通过微电子制造工艺制作而成的。首先,在硅片上涂覆光刻胶,然后使用光刻机将图案投射到光刻胶上。
接着,通过化学腐蚀或离子注入等方法,将图案转移到硅片上。
然后,使用金属蒸镀或化学气相沉积等技术,在硅片上形成导电层和反射层。
最后,通过刻蚀和蚀刻等工艺,形成微小的反射镜和控制电路。这样,DMD芯片就制作完成了。